本文標題："掃描式電子顯微鏡可以觀察不同熱回火溫度的柱狀微觀結(jié)構(gòu)"
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探討熱回火處理對二氧化鈦(TiO2)光學薄膜的光學特性，殘留應(yīng)力的機械性質(zhì)和微觀柱狀結(jié)構(gòu)等影響。光學特性是經(jīng)由穿透光譜加以判讀，殘留應(yīng)力的量測則是透過自己架設(shè)的相位偏移式干涉儀。在微觀結(jié)構(gòu)方面， X光繞射儀判斷薄膜內(nèi)部的結(jié)晶狀況，X光光電子能譜儀可以了解熱回火過程的氧化模態(tài)變化，掃描式電子顯微鏡可以觀察不同熱回火溫度的柱狀微觀結(jié)構(gòu)變化，原子力顯微鏡可以觀看膜質(zhì)的表面輪廓和粗糙度，顯微干涉儀可量測較大面積的表面粗糙度。
在TiO2光學薄膜的制鍍過程中，選擇不同的基板溫度；發(fā)現(xiàn)基板溫度為150℃的TiO2光學薄膜，在不同溫度的熱回火中，不穩(wěn)定的氧化鍵會斷裂形成次氧化鍵，隨熱回火溫度增加，會再度氧化為氧化鍵。在200℃的熱回火溫度時有小的殘留應(yīng)力，因此次氧化鈦在熱回火過程中扮演消除殘留應(yīng)力的緩沖功能。在穿透光學頻譜、殘留應(yīng)力、表面粗糙度變化和微觀結(jié)構(gòu)觀察中，發(fā)現(xiàn)TiO2光學薄膜制鍍在基板溫度200℃和250℃中比150℃來的穩(wěn)定。
在制鍍的方式中，選擇離子輔助電子槍蒸鍍法，射頻離子濺鍍和直流磁控濺鍍法等三種鍍膜方式制鍍TiO2光學薄膜，可以發(fā)現(xiàn)濺鍍出來的TiO2光學薄膜較為穩(wěn)定。對不同的基板溫度制鍍出來的TiO2光學薄膜做再回火穩(wěn)定度研究，發(fā)現(xiàn)再回火過程中，殘留應(yīng)力變化量變小，不會高低起伏變化很大，表示膜質(zhì)已經(jīng)達到穩(wěn)定的狀態(tài)。
綜合上述研究，對制鍍完的TiO2光學薄膜做熱回火處理，確實可以改變膜質(zhì)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，也能使膜質(zhì)趨向穩(wěn)定。
能量分散光譜儀（Energy Dispersive Spectrometer, EDS），
為一般的掃瞄式電子顯微鏡普遍架設(shè)的X光（X-rays）能譜分析儀，
擷取物質(zhì)放射出來的特性X光，分析其能量散佈圖，即可知該樣品元素的組成，
使原有的物性結(jié)構(gòu)分析能力外，再增添化學元素分析的功能。能量分散光譜儀可作微區(qū)域成分分析，
故常被用于樣品之異物分析或成分分析，且可應(yīng)用在刑事或事故上的鑑定。
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