本文標(biāo)題："光學(xué)技術(shù)將有可能達(dá)到相當(dāng)于電子顯微鏡的解析度"
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自 1872 年 Abbe 提出繞射極限的概念以來(lái)，科學(xué)家們一直試圖突破這個(gè)障礙，
讓我們能看到更微觀的世界。
在 1980 年代隨著控制技術(shù)的進(jìn)步而有近場(chǎng)光學(xué)顯微技術(shù)的發(fā)展，對(duì)奈米尺度的光學(xué)
特性研究有了重大的突破。但受限于以光纖尖端掃瞄成像的方式，只能觀察樣本表面。而后
在 90 年代中，提出 STED 的概念之后，到目前已經(jīng)成功在遠(yuǎn)場(chǎng)觀測(cè)下驗(yàn)證了小于繞射極限一個(gè)數(shù)量級(jí)以上的解析度，
同時(shí)依據(jù)螢光分子的特性，設(shè)計(jì)出許多原理類(lèi)似，手法不同的遠(yuǎn)場(chǎng)奈米顯微技術(shù)。相信在不久的將來(lái)，
光學(xué)技術(shù)將有可能達(dá)到相當(dāng)于電子顯微鏡的解析度，
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光學(xué)技術(shù)將有可能達(dá)到相當(dāng)于電子顯微鏡的解析度,熒光顯微鏡現(xiàn)貨供應(yīng)
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