本文標題："討論與表面原子局部性質(zhì)有關的化學變化"

發(fā)布者：YIYI ------ 分類: 站內(nèi)動態(tài) ------ 人瀏覽過 -----時間：2015-10-30 19:18:57

討論與表面原子局部性質(zhì)有關的化學變化

    無論是凈化的表面還是已污染的表面，其主要特征表現(xiàn)在兩
方面:表面化學結(jié)構(gòu)的變量和物理結(jié)構(gòu)的變量。為了制定表面凈
化的程序，我們需要的資料就正是這些性質(zhì)。例如，金屬表面必須
去掉的污染是什么性質(zhì)，表面粗糙度怎樣，顆粒邊界情況怎樣等
等。首先要討論的是表面的化學性質(zhì)。  
    表面產(chǎn)生的化學變化是多種多樣的，但是，基本上可分為兩大
類:(1)與表面原子局部性質(zhì)有關的化學變化，例如化學鍵、相對
間隔和尺寸，以及外部環(huán)境的活性;(2)與固溶體墓體內(nèi)有無自由
載流子和自由載流子多少有關的化學變化。當然，后一種情況對
半導體材料的研究是極其重要的。
 

后一篇文章：大量實驗觀測表面吸附原子與在該層的擴散雜質(zhì) »
前一篇文章：« 電子器件制造中表面潔凈度應符合什么標準

tags:光學顯微鏡,數(shù)碼顯微鏡,生物顯微鏡,細胞學,組織學,生物顯微鏡,精密儀器,

討論與表面原子局部性質(zhì)有關的化學變化,熒光顯微鏡現(xiàn)貨供應

本頁地址：http://www.web01.cn/wz/2212.html轉(zhuǎn)載注明
本站地址：http://www.web01.cn/
http://www.xianweijing.org/