本文標題："斷口復型技術簡介-斷口光學顯微鏡一般使用低倍"
發布者：YIYI ------ 分類: 站內動態 ------ 人瀏覽過 -----時間：2014-12-22 17:23:47
斷口復型技術簡介-斷口光學顯微鏡一般使用低倍
斷口復型技術和在SEM上直接觀察斷口技術的發展促進了
斷口形貌定量化以及斷口形貌與性能和工作特性之間關系研
究的進展，在這些方法出現之前，僅限于對斷口或斷口剖面
的光學顯微鏡觀察，通常是低倍下進行。
由于大多數斷口表面不是平面，除了在斷口剖面上測量外
，光學顯微鏡的用途的局限性，復型技術很難用于延性斷口
，但它們確有優點，那就是復型的某種程度的塌陷使它們
顯得更平一些，SEM觀察是直接的而且不存在人工復制問題
。現代的SEM的分辨率已不再是一個限制因素了，圖象的畸
變依然存在，但這不是主要問題。因此，分析判斷和試樣制
備都很簡單。如果在SEM上進行測量，就是在圖象的反差和
分辨率上有所損失也要避免傾斜試樣，否則就必須對傾斜作
出修正。
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